化学机械抛光磨料粒子CeO2及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200710065387.9
IPC分类号：C09C1/68;C09G1/02;H01L21/304
申请日期：
2007-04-12
申请人：
北京有色金属研究总院;有研稀土新材料股份有限公司

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专利名称	化学机械抛光磨料粒子CeO2及其制备方法
申请号	CN200710065387.9	申请日期	2007-04-12
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2008-10-15	公开/公告号	CN101284952
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09C1/68 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09C 纤维状填料以外的无机材料的处理以增强它们的着色或填充性能（无机化合物或非金属元素本身的制备入C01；专门适用于增强它们在砂浆、混凝土、人造石或类似物质中填充性能的材料处理入C04B 14/00、C04B 18/00、C04B 20/00）；炭黑的制备 C09C1/00 纤维状填料以外的特殊无机材料的处理（发光的或变色荧光的材料入C09K）；炭黑的制备 C09C1/68 松散的磨料粒子	IPC分类号	C;0;9;C;1;/;6;8;;;C;0;9;G;1;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;4查看分类表>
申请人	北京有色金属研究总院;有研稀土新材料股份有限公司	申请人地址	北京市新街口外大街2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	有研稀土新材料股份有限公司	当前权利人	有研稀土新材料股份有限公司
发明人	韩业斌;朱兆武;龙志奇;黄小卫;崔大立;张顺利;崔梅生
代理机构	北京北新智诚知识产权代理有限公司	代理人	郭佩兰

摘要

本发明涉及到化学机械抛光(CMP)磨料粒子CeO2及其制备方法，属于稀土粉体材料的化学制备技术领域。本发明是关于以铈的无机盐溶液利用均相沉淀剂制备得到CMP抛光磨料粒子的方法。其制备步骤是将铈的无机盐与沉淀剂配成一定比例的溶液，通过超声震动使其混合均匀，加热到一定温度生成沉淀，再将浆液静置陈化后，再过滤和煅烧，即可制得CeO2磨料粒子。本发明还通过加入表面活性剂来促进成核速度，从而降低了反应温度，同时得到的磨料粒子球化度也比较好。制备得到了属于单相立方晶系，空间群为O5H-FM3M，分散性好、粒度分布均匀的类球形状，0<比表面积BET<50m2/g的CMP磨料粒子。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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