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用于清洗工艺腔的背板以及工艺腔的清洗装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201320351011.5
  • IPC分类号:C23C16/44
  • 申请日期:
    2013-06-19
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称用于清洗工艺腔的背板以及工艺腔的清洗装置
申请号CN201320351011.5申请日期2013-06-19
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/44IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;4;4查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
发明人张宇;杨远江;黄斗冬
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司代理人申健
摘要
本实用新型实施例公开了一种用于清洗工艺腔的背板以及设有该背板的工艺腔的清洗装置,属于显示技术领域。解决了现有技术中位于工艺腔的角落的薄膜难以被清洗干净的问题。该背板呈矩形,所述背板的中间设置有进气口,所述背板的四个角也均设置有进气口。该工艺腔的清洗装置包括气体发生器和上述的背板,所述气体发生器的出气口与所述背板上的各个进气口相连通。本实用新型应用于CVD工艺腔的清洗。

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