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制造光学薄膜的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200580026370.1
IPC分类号：G02B1/11;B32B7/02;G02B5/30
申请日期：
2005-07-28
申请人：
富士胶片株式会社

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	制造光学薄膜的方法
申请号	CN200580026370.1	申请日期	2005-07-28
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2007-07-18	公开/公告号	CN101002113
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B1/11 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B1/00 按制造材料区分的光学元件（光学玻璃的成分入C03C 3/00）；用于光学元件的光学涂层 G02B1/10 对光学元件表面涂覆或对其进行表面处理后所产生的光学涂层（G02B1/08优先）〔1，2015.01〕 G02B1/11 抗反射涂层〔6，2015.01〕	IPC分类号	G;0;2;B;1;/;1;1;;;B;3;2;B;7;/;0;2;;;G;0;2;B;5;/;3;0查看分类表>
申请人	富士胶片株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	富士胶片株式会社	当前权利人	富士胶片株式会社
发明人	大谷薰明;佐藤信;前川敏彦;铃木真由美;福重裕一
代理机构	北京天昊联合知识产权代理有限公司	代理人	丁业平;张天舒

摘要

一种制造光学薄膜的方法，该光学薄膜具有透明基底和位于该透明基底上或上方的至少一个功能层，其中层叠在所述透明基底上的所述的至少一个功能层是通过包括下述步骤(1)和(2)的成层方法而形成的：步骤(1)，在所述透明基底上施加涂层；以及步骤(2)，在氧气浓度低于空气中氧气浓度的环境下，通过照射电离辐射而固化所述涂层。

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