用于补偿不期望的运动的压电MEMS致动器及其制造工艺

发明专利有效专利

申请号：
CN202010444104.7
IPC分类号：G02B26/08;B81C1/00;B81B7/02
申请日期：
2020-05-22
申请人：
意法半导体股份有限公司

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专利名称	用于补偿不期望的运动的压电MEMS致动器及其制造工艺
申请号	CN202010444104.7	申请日期	2020-05-22
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2020-11-24	公开/公告号	CN111983801A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B26/08 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B26/00 利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置，例如，开关、选通、调制（用于控制灯光顺序的照明装置的可机械操作的部分入F21V；专门用于测量光特性的装置入G01J；其光学操作随介质光学性质的改变而改变的器件或装置入G02F 1/00；光控制一般入G05D 25/00；光源的控制入H01S 3/10，H05B 37/00至H05B 43/00）〔4〕 G02B26/08 控制光的方向（光导中的入G02B 6/35）〔4〕	IPC分类号	G;0;2;B;2;6;/;0;8;;;B;8;1;C;1;/;0;0;;;B;8;1;B;7;/;0;2查看分类表>
申请人	意法半导体股份有限公司	申请人地址	意大利阿格拉布里安扎变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	意法半导体股份有限公司	当前权利人	意法半导体股份有限公司
发明人	D·朱斯蒂;D·帕希
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	董莘

摘要

本公开涉及一种用于补偿不期望的运动的微机电系统(MEMS)压电致动器及其制造工艺。MEMS致动器包括半导体材料的单片式主体，其中半导体材料的支撑部可相对于彼此横切的第一旋转轴和第二旋转轴定向。半导体材料的第一框架通过第一可变形元件耦合到支撑部，第一可变形元件被配置为控制支撑部绕第一旋转轴的旋转。半导体材料的第二框架通过第二可变形元件耦合到第一框架，第二可变形元件耦合在第一框架和第二框架之间并且被配置为控制支撑部绕第二旋转轴的旋转。第一可变形元件和第二可变形元件承载相应的压电致动元件。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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