一种透明半导体纳米电热膜用电极结构及制备工艺

发明专利有效专利

申请号：
CN202110638268.8
IPC分类号：H05B3/03
申请日期：
2021-06-08
申请人：
福建晶烯新材料科技有限公司

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专利名称	一种透明半导体纳米电热膜用电极结构及制备工艺
申请号	CN202110638268.8	申请日期	2021-06-08
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-10	公开/公告号	CN113382487A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05B3/03 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05B 电热；其他类目不包含的电照明 H05B3/00 欧姆电阻加热的 H05B3/02 零部件 H05B3/03 电极〔2〕	IPC分类号	H;0;5;B;3;/;0;3查看分类表>
申请人	福建晶烯新材料科技有限公司	申请人地址	福建省龙岩市新罗区东城街道东宝路838-40号2号厂房变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	福建晶烯新材料科技有限公司	当前权利人	福建晶烯新材料科技有限公司
发明人	罗浩;蔡建财;杨小华
代理机构	北京和联顺知识产权代理有限公司	代理人	李照

摘要

本发明涉及一种透明半导体纳米电热膜用电极结构的制作工艺。本发明通过利用导电银浆以丝印的方式得到了与基体融为一体的电极，电极的结构可以通过聚酯丝网或不锈钢丝网制作，形成了更为稳定且工作效果更好的电极结构，而多样的电极和绝缘区设置也能达到更好的工作效果，满足更多的使用要求，整个制作过程通过了丝印电极、预热烘干、高温烧结和风冷降温阶段，操作更为方便，加工效果更佳，电极结构更为稳定。

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