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高电子迁移率晶体管PHEMT热阻测试方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610015695.X
  • IPC分类号:G01R31/26;G01N25/20
  • 申请日期:
    2016-01-11
  • 申请人:
    中国电子科技集团公司第十研究所
著录项信息
专利名称高电子迁移率晶体管PHEMT热阻测试方法
申请号CN201610015695.X申请日期2016-01-11
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2016-04-20公开/公告号CN105510794A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01R31/26IPC分类号G;0;1;R;3;1;/;2;6;;;G;0;1;N;2;5;/;2;0查看分类表>
申请人中国电子科技集团公司第十研究所申请人地址
四川省成都市金牛区茶店子东街48号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国电子科技集团公司第十研究所当前权利人中国电子科技集团公司第十研究所
发明人胡家渝
代理机构成飞(集团)公司专利中心代理人郭纯武
摘要
本发明公开的一种高电子迁移率晶体管PHEMT热阻的测试方法,利用本发明测温准确,不易造成PHEMT损坏和测试误差,本发明通过下述技术方案予以实现:由半导体热阻测试仪器T3ster提供电流源在PHEMT晶体管的漏极源极间加载电流,通过管子的内阻对PHEMT晶体管的沟道加热,然后由T3ster外围控制电路瞬间的电路切换,加热瞬间停止,在该过程中T3ster电压输出端Ucb使快恢复二极管正偏,Ucb在连接分压电阻R1的分压作用下,待测PHEMT晶体管栅极G和源极S间产生夹断电压,PHEMT栅极G和源极S之间反偏,电路切换后,栅极G和源极S之间正偏,其压降反映其温度。T3ster测出的温度变化值在计算机中利用T3ster的数据处理软件Master获得热阻。

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