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一种双模激光成像系统及成像方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201611007527.2
  • IPC分类号:G01S17/89
  • 申请日期:
    2016-11-16
  • 申请人:
    中国电子科技集团公司第十一研究所
著录项信息
专利名称一种双模激光成像系统及成像方法
申请号CN201611007527.2申请日期2016-11-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-04-26公开/公告号CN106597468A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01S17/89IPC分类号G;0;1;S;1;7;/;8;9查看分类表>
申请人中国电子科技集团公司第十一研究所申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路4号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国电子科技集团公司第十一研究所当前权利人中国电子科技集团公司第十一研究所
发明人刘波;陈念江;眭晓林;曹昌东;颜子恒;赵娟莹;吴姿妍
代理机构工业和信息化部电子专利中心代理人于金平
摘要
本发明公开了一种双模激光成像系统及成像方法。该系统包括激光光源、分光器、激光处理模块、激光分束模块、本振开关、回波信号接收模块、探测器、混频模块、及信号处理模块。本发明提供的双模激光成像系统的能够在探测目标与激光雷达处于不同的模式时,通过本振开关使双模激光成像系统在直接探测和相干探测之间切换,不仅具有在近距离处成像快、分辨率高、实现简单等优点,而且还具有在远距离利用相干探测高灵敏度目标距离的能力,与实际应用中远距离需要获取尽可能远的单点作用距离,近距离需要获取目标多点距离信息利于目标识别相符合。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供