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抗蚀剂底层组合物及使用此类组合物的图案形成方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010418531.8
IPC分类号：G03F7/004;G03F7/09;C08F212/08;C08F212/14;C08F8/00;C08G8/28;C08G8/04
申请日期：
2020-05-18
申请人：
罗门哈斯电子材料有限责任公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	抗蚀剂底层组合物及使用此类组合物的图案形成方法
申请号	CN202010418531.8	申请日期	2020-05-18
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-12-01	公开/公告号	CN112015049A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/004 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;9;;;C;0;8;F;2;1;2;/;0;8;;;C;0;8;F;2;1;2;/;1;4;;;C;0;8;F;8;/;0;0;;;C;0;8;G;8;/;2;8;;;C;0;8;G;8;/;0;4查看分类表>
申请人	罗门哈斯电子材料有限责任公司	申请人地址	美国马萨诸塞州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	罗门哈斯电子材料有限责任公司	当前权利人	罗门哈斯电子材料有限责任公司
发明人	崔莉;山田晋太郎;L-S·科;P·J·拉博姆;S·M·科莱;J·F·卡梅伦;张可人;J·凯茨
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	暂无

摘要

公开了一种抗蚀剂底层组合物，其包括聚合物，所述聚合物具有聚合物主链和侧接到所述聚合物主链的取代或未取代的富勒烯基团；和溶剂，其量基于总的抗蚀剂底层组合物为50至99.9重量％。

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