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化妆方法、化妆模拟装置、以及化妆模拟程序

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200980102863.7
  • IPC分类号:A61K8/00;A61Q1/00;A61Q1/04;A61Q1/10;G06T1/00
  • 申请日期:
    2009-01-21
  • 申请人:
    株式会社资生堂
著录项信息
专利名称化妆方法、化妆模拟装置、以及化妆模拟程序
申请号CN200980102863.7申请日期2009-01-21
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2010-12-22公开/公告号CN101925345A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号A61K8/00IPC分类号A;6;1;K;8;/;0;0;;;A;6;1;Q;1;/;0;0;;;A;6;1;Q;1;/;0;4;;;A;6;1;Q;1;/;1;0;;;G;0;6;T;1;/;0;0查看分类表>
申请人株式会社资生堂申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社资生堂当前权利人株式会社资生堂
发明人镰田由美子;砂川惠子;向井志臣;高野路丽子;后藤康男;田颜清馨
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇
摘要
一种化妆方法,其用于对化妆对象者的侧面脸进行化妆,所述化妆方法的特征在于,具有:侧面脸特定部位提取步骤,从所述化妆对象者的平面上所显示的侧面脸中提取出所述侧面脸的特定部位;化妆区域提取步骤,根据由所述侧面脸特定部位提取步骤所得到的多个侧面脸特定部位,提取出对所述化妆对象者进行化妆的化妆区域;化妆步骤,对与所述化妆区域提取步骤所提取的化妆区域相对应的所述化妆对象者的脸上的区域进行化妆。

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