专利名称 | 一种熔石英光学元件表面Sol-gel减反射膜层清洗方法 | ||
申请号 | CN202011568122.2 | 申请日期 | 2020-12-25 |
法律状态 | 实质审查 | 申报国家 | 中国 |
公开/公告日 | 2021-05-07 | 公开/公告号 | CN112759280A |
优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
主分类号 | C03C23/00 | IPC分类号 | C;0;3;C;2;3;/;0;0;;;G;0;1;B;1;1;/;0;6;;;G;0;1;B;2;1;/;3;0;;;G;0;1;N;2;1;/;3;1;;;G;0;1;N;2;1;/;5;9;;;G;0;1;N;2;1;/;6;5;;;G;0;1;Q;6;0;/;2;4查看分类表> |
申请人 | 中国人民解放军国防科技大学 | 申请人地址 | 湖南省长沙市开福区砚瓦池正街47号
变更
专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效 |
权利人 | 中国人民解放军国防科技大学 | 当前权利人 | 中国人民解放军国防科技大学 |
发明人 | 宋辞;石峰;钟曜宇;田野;张坤;铁贵鹏;薛帅;林之凡 | ||
代理机构 | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) | 代理人 | 谭武艺 |
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 |
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该专利没有引用任何外部专利数据! |
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 |
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该专利没有被任何外部专利所引用! |
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