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硅片表面金属电极制作方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710089300.1
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2007-03-20
  • 申请人:
    高文秀
著录项信息
专利名称硅片表面金属电极制作方法
申请号CN200710089300.1申请日期2007-03-20
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-09-12公开/公告号CN101034724
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人高文秀申请人地址
上海市虹口区玉田路500号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人高文秀当前权利人高文秀
发明人高文秀
代理机构郑州联科专利事务所(普通合伙)代理人田小伍
摘要
硅片表面金属电极制作方法,把所要制作电极的硅片固定在印刷台面上,先在硅片表面上根据需要的深度划开硅片表面自然氧化层形成沟槽,再使印刷电极浆料填埋入沟槽中,最后烧结硅片使印刷电极浆料与硅表面形成牢固的微合金,从而形成良好欧姆接触的表面电极。专用开槽器包括内设浆料通道的握柄,握柄下面前部前后设置锥形出浆管口和劈刀,出浆管口与开槽器浆料通道连通。出浆管用不锈钢亚毫米细管制成。利用本发明制作硅片表面金属电极,工艺简单、材料消耗少、生产效率高。

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