掩膜版图形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及滤光片

发明专利有效专利

申请号：
CN201911164958.3
IPC分类号：G03F1/00;G03F1/70;G02F1/1335;G03F7/00
申请日期：
2019-11-25
申请人：
上海仪电显示材料有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	掩膜版图形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及滤光片
申请号	CN201911164958.3	申请日期	2019-11-25
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-11	公开/公告号	CN112946991A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;7;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;5;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	上海仪电显示材料有限公司	申请人地址	上海市闵行区华宁路3306弄160号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海仪电显示材料有限公司	当前权利人	上海仪电显示材料有限公司
发明人	唐文静;王达兴;范刚洪;徐广军;王群;王红光
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	唐嘉

摘要

一种掩膜版图形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及滤光片，其中，掩膜版图形的形成方法包括：提供初始图形区，所述初始图形区包括多个有序排列的像素单元格图形；采用圆弧状边界线将所述初始图形区划分为显示区和非显示区，部分所述像素单元格图形跨越所述圆弧状边界线，跨越所述圆弧状边界线的所述像素单元格图形位于所述显示区的面积不相等。本发明实施例提供的掩膜版图形的形成方法，形成的掩膜版图形，使显示区和非显示区的边界呈圆滑的圆弧设计，圆弧形状更加自然，提高了显示屏幕的美观性。

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