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应用于压接型MOSFET的栅极结构

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201821186545.6
  • IPC分类号:H01L25/07;H01L23/48
  • 申请日期:
    2018-07-25
  • 申请人:
    清华大学
著录项信息
专利名称应用于压接型MOSFET的栅极结构
申请号CN201821186545.6申请日期2018-07-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L25/07IPC分类号H;0;1;L;2;5;/;0;7;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8查看分类表>
申请人清华大学申请人地址
北京市海淀区清华园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人清华大学当前权利人清华大学
发明人陈政宇;曾嵘;赵彪;余占清;刘佳鹏;周文鹏
代理机构北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙)代理人王冲;吴鑫
摘要
一种应用于压接型MOSFET的栅极结构,包括第一铜块,压接型MOSFET,栅极连接件,接收外部栅极控制信号的连接接口,第二铜块,与所述压接型MOSFET栅极接触的棒状金属,用于所述棒状金属与所述栅极连接件连接的弹性结构,所述栅极连接件与所述第二铜块之间的绝缘介质。使用对MOSFET散热路径无阻隔作用的上述栅极结构,能够提升散热能力,同时简化压装结构。

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