光敏复合物和具有光敏复合物的积层绝缘膜、以及使用积层绝缘膜制造电路板的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201110136998.4
IPC分类号：G03F7/027;G03F7/004;B32B27/08;B32B27/36;B32B27/38;H05K1/02;H05K3/06
申请日期：
2011-05-24
申请人：
三星电机株式会社

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著录项信息

专利名称	光敏复合物和具有光敏复合物的积层绝缘膜、以及使用积层绝缘膜制造电路板的方法
申请号	CN201110136998.4	申请日期	2011-05-24
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2012-05-23	公开/公告号	CN102466971A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/027 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/027 具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物（G03F 7/075优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;B;3;2;B;2;7;/;0;8;;;B;3;2;B;2;7;/;3;6;;;B;3;2;B;2;7;/;3;8;;;H;0;5;K;1;/;0;2;;;H;0;5;K;3;/;0;6查看分类表>
申请人	三星电机株式会社	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三星电机株式会社	当前权利人	三星电机株式会社
发明人	赵在春;郑炯美;李和泳;李春根
代理机构	北京康信知识产权代理有限责任公司	代理人	余刚;李丙林

摘要

本发明提供了一种光敏复合物和具有光敏复合物的积层绝缘膜、以及使用积层绝缘膜制造电路板的方法。该用于制造电路板的方法包括：制备光敏复合物；通过将该光敏复合物流延到由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)材料制成的膜中来制备积层绝缘膜；将该积层绝缘膜堆叠在所述板上；通过使用光刻工艺在积层绝缘膜上形成过孔；以及在过孔中形成导电通孔。用于制造根据本发明的电路板的方法通过使用光刻工艺来形成过孔，从而使得可以制造包括导电通孔的电路板，该导电通孔具有其上部宽度和下部宽度相同的柱形状，同时与使用相关技术的激光形成过孔相比，减少了电路板的制造成本。

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