含钛层用蚀刻液以及含肽层的蚀刻方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200480023396.6
IPC分类号：C23F1/26
申请日期：
2004-08-06
申请人：
三菱化学株式会社

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著录项信息

专利名称	含钛层用蚀刻液以及含肽层的蚀刻方法
申请号	CN200480023396.6	申请日期	2004-08-06
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2006-09-20	公开/公告号	CN1836061
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23F1/26 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23F 非机械方法去除表面上的金属材料（电浸蚀法加工金属入B23H；火焰法清除表层金属材料入B23K 7/00；用激光束加工金属入B23K 26/00）；金属材料的缓蚀；一般防积垢（电解或电泳法处理金属表面或金属覆层入C25D，C25F）；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法之多步法金属材料表面处理〔4〕 C23F1/00 金属材料的化学法蚀刻〔2〕 C23F1/10 蚀刻用组合物（C23F 1/44优先）〔4〕 C23F1/14 含水组合物〔4〕 C23F1/16 酸性组合物（C23F 1/42优先）〔4〕 C23F1/26 蚀刻难熔金属用的〔4〕	IPC分类号	C;2;3;F;1;/;2;6查看分类表>
申请人	三菱化学株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三菱化学株式会社	当前权利人	三菱化学株式会社
发明人	石川诚;河瀬康弘;齐藤范之
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	张平元;赵仁临

摘要

本发明提供含钛层用蚀刻液和含钛层蚀刻方法，所述蚀刻液是蚀刻形成在硅基板上或硅酸类玻璃基板上的以选自钛、钛氧化物、钛氮化物以及钛氧氮化物中的1种或2种或2种以上为主要成分的含钛层的蚀刻液，是含有氟硅酸的含钛层用蚀刻液，能够以快的蚀刻速度且不会侵蚀基板地选择性地进行蚀刻。所述蚀刻方法是使用该蚀刻液蚀刻硅基板或硅酸类玻璃基板上的含钛层的蚀刻方法。氟硅酸是氢氟酸和硅或氧化硅反应生成的物质，对于硅或硅酸类玻璃是非活性的，而对于钛、钛氧化物、钛氮化物或钛氧氮化物具有充分的蚀刻性能，对于硅基板上或硅酸类玻璃基板上含钛层的蚀刻具有充分的选择性。

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