加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

等离子体装置、等离子体生成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201880091211.7
  • IPC分类号:H05H1/32;H05H1/26
  • 申请日期:
    2018-03-20
  • 申请人:
    株式会社富士
著录项信息
专利名称等离子体装置、等离子体生成方法
申请号CN201880091211.7申请日期2018-03-20
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-11-03公开/公告号CN111886934A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H05H1/32IPC分类号H;0;5;H;1;/;3;2;;;H;0;5;H;1;/;2;6查看分类表>
申请人株式会社富士申请人地址
日本爱知县知立市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社富士当前权利人株式会社富士
发明人神藤高广
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司代理人暂无
摘要
本公开的课题是能够高效地生成等离子体。在本公开的等离子体装置中,包括电介质屏障放电器和电弧放电器,在被供给用于生成等离子体的气体的放电空间内,在比电介质屏障放电器靠下游侧处设置电弧放电器。在电介质屏障放电器中发生电介质屏障放电,在电弧放电器中发生电弧放电。在电介质屏障放电中使用于生成等离子体的气体活性化,因此在电弧放电中能够使前述的气体良好地等离子体化。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供