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带有第一和第二场电极结构的半导体装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610122679.0
  • IPC分类号:H01L29/40;H01L29/78;H01L21/336
  • 申请日期:
    2016-03-04
  • 申请人:
    英飞凌科技奥地利有限公司
著录项信息
专利名称带有第一和第二场电极结构的半导体装置
申请号CN201610122679.0申请日期2016-03-04
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-09-14公开/公告号CN105938847A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/40IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;4;0;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人英飞凌科技奥地利有限公司申请人地址
奥地利菲拉赫 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英飞凌科技奥地利有限公司当前权利人英飞凌科技奥地利有限公司
发明人F.希尔勒;M.H.菲勒迈尔
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人申屠伟进;杜荔南
摘要
本发明涉及带有第一和第二场电极结构的半导体装置。半导体装置包含:从第一表面延伸到半导体部分中的第一和第二场电极结构。第一场电极结构包含使针状第一场电极与半导体部分绝缘的第一场电介质。第二场电极结构包含使针状第二场电极与半导体部分绝缘的第二场电介质。第二场电介质比第一场电介质更厚。在第一表面中第一和第二场电极结构的开口可以是非圆形对称的,其中第二场电极结构的开口关于第一场电极结构的开口倾斜。替选地或附加地,在第一表面中第二场电极结构的开口可以比第一场电极结构的开口更大。

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