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光刻设备、控制系统及器件制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200510064168.X
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/027
申请日期：
2005-04-13
申请人：
ASML荷兰有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻设备、控制系统及器件制造方法
申请号	CN200510064168.X	申请日期	2005-04-13
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2006-01-18	公开/公告号	CN1721994
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	H·布特勒
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王波波

摘要

一种光刻设备，包含：照明系统，配置成提供辐射束；支撑物，配置成支持图形化装置，该图形化装置配置成向射束截面传递图形；衬底平台，配置成支撑衬底；投影系统，配置成把图形化的射束投影到衬底的目标部分上；测量系统，配置成产生信息信号，该信息信号包含与图形化装置、衬底、投影系统以及其中部件中的至少一个的位置相关的信息；以及控制所述位置的控制系统。

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