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含磺酸酯的形成光刻用防反射膜的组合物

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200580037457.9
  • IPC分类号:G03F7/11;C08G59/14;H01L21/027
  • 申请日期:
    2005-10-25
  • 申请人:
    日产化学工业株式会社
著录项信息
专利名称含磺酸酯的形成光刻用防反射膜的组合物
申请号CN200580037457.9申请日期2005-10-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2007-10-10公开/公告号CN101052919
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/11IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;1;;;C;0;8;G;5;9;/;1;4;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人日产化学工业株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日产化学工业株式会社当前权利人日产化学工业株式会社
发明人岸冈高广;畑中真;木村茂雄
代理机构北京市中咨律师事务所代理人段承恩;田欣
摘要
本发明的课题在于提供,能够形成防反射光效果好,与光致抗蚀剂不发生混合,具有比光致抗蚀剂大的蚀刻速度,能够形成在下部没有褶边状(基脚:footing)的光致抗蚀剂图案,在采用ArF准分子激光和F2准分子激光等光刻工艺中能够使用的防反射膜,和用于形成该防反射膜的形成光刻用防反射膜的组合物,本发明提供了形成光刻用防反射膜的组合物,它含有高分子化合物、交联性化合物、交联催化剂、磺酸酯化合物和溶剂。

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