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高线性度的互补金属氧化物半导体转导电路

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02120450.0
  • IPC分类号:H03F1/32;H03F1/34;H03F3/18
  • 申请日期:
    2002-05-23
  • 申请人:
    财团法人工业技术研究院
著录项信息
专利名称高线性度的互补金属氧化物半导体转导电路
申请号CN02120450.0申请日期2002-05-23
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2003-12-03公开/公告号CN1459924
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H03F1/32IPC分类号H;0;3;F;1;/;3;2;;;H;0;3;F;1;/;3;4;;;H;0;3;F;3;/;1;8查看分类表>
申请人财团法人工业技术研究院申请人地址
台湾省新竹县竹东镇中兴路四段195号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人财团法人工业技术研究院当前权利人财团法人工业技术研究院
发明人楼志宏
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人任永武
摘要
本发明提出一互补金属氧化物半导体(CMOS)转导电路,用以同时提供高速与高线性度的特性,其包含一输出晶体管,此输出晶体管的源极用以接受电流源的输入,而输出晶体管的闸极用以接受另一电流源的输入,并且由输出晶体管的汲极输出电流;一电阻,是连接输出晶体管的源极;及一区域负反馈电路,是将输出晶体管的闸极负反馈连接至输出晶体管的源极,并使得此互补金属氧化物半导体转导电路的转导值为电阻值的倒数。

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