聚焦线圈修复再利用的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200910005386.4
IPC分类号：C23C14/34;C23C14/02
申请日期：
2009-02-24
申请人：
宁波江丰电子材料有限公司

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著录项信息

专利名称	聚焦线圈修复再利用的方法
申请号	CN200910005386.4	申请日期	2009-02-24
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2009-09-02	公开/公告号	CN101519767
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;0;2查看分类表>
申请人	宁波江丰电子材料有限公司	申请人地址	浙江省余姚市阳明科技工业园区江丰路1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	宁波江丰电子材料股份有限公司	当前权利人	宁波江丰电子材料股份有限公司
发明人	姚力军;周友平;汪涛;刘庆
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	李丽

摘要

一种聚焦线圈修复再利用的方法，包括：在已使用过的聚焦线圈上的固定孔内壁涂覆保护膜；对所述聚焦线圈进行腐蚀，以去除所述聚焦线圈外环表面附着的溅射材料；在所述聚焦线圈的外环表面涂覆保护膜；继续对所述聚焦线圈进行腐蚀，以去除所述聚焦线圈内环表面附着的溅射材料；去除所述聚焦线圈表面的保护膜；对所述聚焦线圈内环表面进行粗糙处理；对所述聚焦线圈进行清洗，以去除粗糙处理所产生的残留物。通过所述方法，所述聚焦线圈可再次利用于物理气相沉积中，从而节约了成本。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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