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一种提高异形零件镀膜均匀性的控制方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811518316.4
  • IPC分类号:C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54
  • 申请日期:
    2018-12-12
  • 申请人:
    上海航天控制技术研究所
著录项信息
专利名称一种提高异形零件镀膜均匀性的控制方法
申请号CN201811518316.4申请日期2018-12-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-04-19公开/公告号CN109652780A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/35IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;5;0;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4查看分类表>
申请人上海航天控制技术研究所申请人地址
上海市闵行区中春路1555号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海航天控制技术研究所当前权利人上海航天控制技术研究所
发明人朱蓓蓓;兰洁;申振丰;许剑锋;陈肖;袁航;陆波;杨英杰;李维源
代理机构上海航天局专利中心代理人圣冬冬
摘要
本专利提供了一种提高异形零件镀膜均匀性的控制方法,创新性的提出采用光线模拟技术模拟异型零件多自由度运动,使被镀异型零件进行高精度多自由度运动,实时调节异型零件摆动角度、自转速率、公转周期等运动参数,调整异型零件相对溅射沉积时间,提高异型零件均匀性,同时合理监测薄膜厚度。最终保证产品膜层厚度小于80nm、膜层均匀性小于3%。解决了异型零件镀膜膜层均匀性难以控制的问题。

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