一种大尺寸复杂结构滚子轴承套圈内引导面均匀沉积TiN涂层的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010443388.8
IPC分类号：C23C14/32;C23C14/02;C23C14/04;C23C14/06;F16C33/62;F16C33/64
申请日期：
2020-05-22
申请人：
哈尔滨工业大学

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专利名称	一种大尺寸复杂结构滚子轴承套圈内引导面均匀沉积TiN涂层的方法
申请号	CN202010443388.8	申请日期	2020-05-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-09-18	公开/公告号	CN111676455A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/32 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕 C23C14/32 爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法（C23C 14/34至C23C 14/48优先）〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;2;;;C;2;3;C;1;4;/;0;2;;;C;2;3;C;1;4;/;0;4;;;C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;F;1;6;C;3;3;/;6;2;;;F;1;6;C;3;3;/;6;4查看分类表>
申请人	哈尔滨工业大学	申请人地址	黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	哈尔滨工业大学	当前权利人	哈尔滨工业大学
发明人	马欣新
代理机构	哈尔滨市松花江专利商标事务所	代理人	岳泉清

摘要

一种大尺寸复杂结构滚子轴承套圈内引导面均匀沉积TiN涂层的方法，涉及一种轴承套圈内引导面沉积涂层的方法。目的是解决轴承套圈进行沉积TiN时非引导面的防护不充分、沉积速度低和均匀性差的问题。方法：屏蔽机构对轴承套圈内表面、轴承套圈端面和外表面进行屏蔽，将屏蔽后的轴承套圈安装在倾斜回转机构上；在多弧真空离子镀膜机中安装轴承套圈回转屏蔽系统，将两个多弧靶材安装在轴承套圈回转屏蔽系统两侧，然后依次进行检测漏率、抽真空与预加热、溅射清洗、多弧离子镀TiN和冷却降温。本发明提高了多弧靶的利用率和沉积速率，沉积厚度均匀性得到提高。本发明适用于轴承套圈内引导面沉积TiN涂层。

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该专利没有引用任何外部专利数据！

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