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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

离子源清洁装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202022700700.5
  • IPC分类号:B08B1/00;B08B13/00;H01J49/02
  • 申请日期:
    2020-11-20
  • 申请人:
    安图实验仪器(郑州)有限公司
著录项信息
专利名称离子源清洁装置
申请号CN202022700700.5申请日期2020-11-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B08B1/00IPC分类号B;0;8;B;1;/;0;0;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0;;;H;0;1;J;4;9;/;0;2查看分类表>
申请人安图实验仪器(郑州)有限公司申请人地址
河南省郑州市经济技术开发区第十五大街199号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人安图实验仪器(郑州)有限公司当前权利人安图实验仪器(郑州)有限公司
发明人韩乐乐;吴云昭;尚元贺;张亚芳;李向广;蔡克亚;张瑞峰
代理机构郑州异开专利事务所(普通合伙)代理人韩华
摘要
本实用新型公开了一种离子源清洁装置,包括安装单元,具有一上安装面和一下安装面;弹性清洁单元,设置在安装单元的上安装面上;以及连接单元,使下安装面紧贴在质谱仪的靶板安装槽内;其中,当离子源清洁装置移动至质谱仪的离子源下方时,弹性清洁单元的上表面抵在离子源的下表面并擦拭堆积在离子源上的残留离子。本实用新型的离子源清洁装置可卡装在靶板安装结构的靶板安装槽内,利用质谱仪的真空腔室内的既有结构(即XY移动平台)实现离子源清洁装置的水平往返移动,在水平往返移动时弹性清洁单元可反复擦拭离子源下部的电极,实现电极的清洁,整个清洁过程在可在真空腔室的原有的负压环境中进行,无需将真空腔室恢复至常压,缩短了清洁时间。

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