用等离子体加强氧化硅淀积作用的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN88104436.9
IPC分类号：--
申请日期：
1988-07-15
申请人：
美国BOC集团有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	用等离子体加强氧化硅淀积作用的方法
申请号	CN88104436.9	申请日期	1988-07-15
法律状态	放弃专利权	申报国家	中国
公开/公告日	1989-01-25	公开/公告号	CN1030616
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	美国BOC集团有限公司	申请人地址	美国新泽西州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	美国BOC集团有限公司	当前权利人	美国BOC集团有限公司
发明人	约翰·T·费尔斯;尤金·S·洛帕塔
代理机构	中国专利代理有限公司	代理人	何耀煌;肖掬昌

摘要

用等离子体加强氧化硅淀积作用的方法包括：提供至少含有汽化的有机硅化合物，氧和惰性气体的气流；在预先抽空的反应室中产生来源于该气流的等离子体，将基片可移动地置于其中；淀积时，用非平衡磁控管约束基片附近的等离子体，以提高离子流量；使气流可控地流入等离子体中。该方法以商业上可行的淀积速率，在小的和大的基片上可重复地淀积粘附的、硬质的和基本上无机的氧化硅基薄膜，该薄膜以高质量的交键连接为特征。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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