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用于纳米压印的均匀旋涂设备

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201922466659.7
  • IPC分类号:B05C13/02;B05C11/08;B05C15/00
  • 申请日期:
    2019-12-31
  • 申请人:
    青岛天仁微纳科技有限责任公司
著录项信息
专利名称用于纳米压印的均匀旋涂设备
申请号CN201922466659.7申请日期2019-12-31
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B05C13/02IPC分类号B;0;5;C;1;3;/;0;2;;;B;0;5;C;1;1;/;0;8;;;B;0;5;C;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人青岛天仁微纳科技有限责任公司申请人地址
山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人青岛天仁微纳科技有限责任公司当前权利人青岛天仁微纳科技有限责任公司
发明人冀然
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型提出一种用于纳米压印的均匀旋涂设备,包括:真空吸盘;电机,与真空吸盘的底部连接;基板夹具,位于真空吸盘上;其中,基板夹具包括:与真空吸盘上表面滑动连接的第一夹持部以及第二夹持部,第一夹持部与第二夹持部卡接并定位基板的中心与真空吸盘的中心重合于一点;真空吸盘上表面分别设有用于固定基板的基板固定部,以及用于固定基板夹具的夹具固定部,夹具固定部位于基板固定部外侧;在真空吸盘上表面上位于基板固定部的位置设有支撑部,支撑部的上表面与基板固定部以及夹具固定部的上表面平齐。本实用新型能对异形基板进行有效旋涂,使其基板表面各处胶液厚度均匀。

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