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化学增幅型光阻组合物

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110442501.1
  • IPC分类号:G03F7/038;G03F7/00;G03F7/20
  • 申请日期:
    2009-07-10
  • 申请人:
    信越化学工业株式会社
著录项信息
专利名称化学增幅型光阻组合物
申请号CN201110442501.1申请日期2009-07-10
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-07-18公开/公告号CN102591152A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/038IPC分类号G;0;3;F;7;/;0;3;8;;;G;0;3;F;7;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人信越化学工业株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人信越化学工业株式会社当前权利人信越化学工业株式会社
发明人渡边聪;田中启顺;渡边武;金生刚
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人崔香丹;张永康
摘要
本发明是一种化学增幅型光阻组合物,其至少含有1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物或氧化胺化合物,但排除胺及氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形。由此,可提供一种化学增幅光阻材料等的光阻材料、及使用此材料的图案形成方法,该光阻材料在用于微加工的微影成像术且特别是使用KrF激光、ArF激光、F2激光、极短紫外线、电子射线、X射线等作为曝光光源的微影术中,可赋予高解像性,同时在基板界面也能赋予良好图案形状。

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