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抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200810173347.0
  • IPC分类号:G03F7/004;G03F7/00
  • 申请日期:
    2008-11-13
  • 申请人:
    东京应化工业株式会社
著录项信息
专利名称抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂
申请号CN200810173347.0申请日期2008-11-13
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2009-07-01公开/公告号CN101470349
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/004IPC分类号G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人东京应化工业株式会社申请人地址
日本神奈川县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京应化工业株式会社当前权利人东京应化工业株式会社
发明人濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人朱丹
摘要
本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中,涉及通式(I)表示的化合物;以及通式(b1-1)表示的化合物(式中,Q1是2价连接基团或单键;Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基;X表示可具有取代基的碳原子数为3~30的环式基,该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子。)x-Q1-Y1-SO3-  M+ …(I)X-Q1-Y1-SO3-  A+ …(b1-1)。

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