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一种用于光刻装置的套刻补偿系统及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510590523.0
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2015-09-17
  • 申请人:
    上海微电子装备有限公司
著录项信息
专利名称一种用于光刻装置的套刻补偿系统及方法
申请号CN201510590523.0申请日期2015-09-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-03-29公开/公告号CN106547171A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海微电子装备有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人陈海华;吴凌风;任书铭;束奇伟;韩传有
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人屈蘅
摘要
本发明公开一种用于光刻装置的套刻补偿系统,包括:一照明模块,用于提供一辐射束;一掩模台,用于承载一图案;一工件台,用于承载一待曝光重组晶圆并提供至少一个自由度的运动;一投影物镜,用于将该图案成像至该待曝光重组晶圆;一套刻误差测量及补偿系统,用于测量该待曝光重组晶圆上的芯片位置与图案成像位置的相对位置误差,计算获得一校正模型用于补偿该相对位置误差。本发明同时公开一种用于光刻装置的套刻补偿方法。

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