一种调节旋涂成膜腔室气氛的同步罩结构

发明专利有效专利

申请号：
CN202110719652.0
IPC分类号：B05C15/00
申请日期：
2021-06-28
申请人：
大连理工大学

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专利名称	一种调节旋涂成膜腔室气氛的同步罩结构
申请号	CN202110719652.0	申请日期	2021-06-28
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-10-01	公开/公告号	CN113457938A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B05C15/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B05 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕 B05C 一般对表面涂布液体或其他流体的装置（喷射装置、雾化装置、喷嘴入B05B；把液体或其他流体涂布于物体上的静电喷射装置入B05B 5/08）〔2〕 B05C15/00 设备的屏蔽；室（喷雾室入 B05B16/00）〔4，2006.01〕	IPC分类号	B;0;5;C;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人	大连理工大学	申请人地址	辽宁省大连市高新园区凌工路2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大连理工大学	当前权利人	大连理工大学
发明人	周平;刘秋雨;闫英;李承航;郭东明
代理机构	大连东方专利代理有限责任公司	代理人	鲁保良;李洪福

摘要

本发明公开了一种调节旋涂腔室气氛的同步罩结构，包括罩盖和罩底，所述罩盖包括进气接口、盖板、内支撑筒和外支撑筒，所述罩底包括仿形罩、底板和支撑筒。本发明中溶剂蒸汽经进气接口、盖板与仿形罩之间的横隔腔室、内支撑筒与与仿形罩之间的气体通道、底板上的通气孔带进入旋涂腔室，可以减小挥发非均匀性。此外，在旋涂结束后，可以通过进气接口和通气孔带将旋涂腔室中溶剂蒸汽抽出，降低了旋涂腔室尤其是基片边缘附近的溶剂蒸汽浓度，加速边缘区域的挥发以防止边缘回缩产生边缘效应。本发明限制了通气孔带的位置，通气孔带正对基片外缘，不直接作用在基片上，避免了溶剂蒸汽注入或抽出过程中气流对膜厚的影响。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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