首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

一种去除光刻胶的清洗液

发明专利无效专利

申请号：
CN201210528267.9
IPC分类号：G03F7/42
申请日期：
2012-12-10
申请人：
安集微电子科技（上海）有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种去除光刻胶的清洗液
申请号	CN201210528267.9	申请日期	2012-12-10
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-06-18	公开/公告号	CN103869635A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/42 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕 G03F7/42 剥离或剥离剂〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人	安集微电子科技（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	安集微电子科技（上海）股份有限公司	当前权利人	安集微电子科技（上海）股份有限公司
发明人	孙广胜;刘兵;彭洪修;颜金荔
代理机构	上海翰鸿律师事务所	代理人	李佳铭

摘要

本发明公开了一种低蚀刻性的适用与较厚光刻胶清洗的清洗液及其清洗方法。这种低蚀刻性的光刻胶清洗液含有季铵氢氧化物，醇胺，C4-C6多元醇以及溶剂。这种低蚀刻性的光刻胶清洗剂能够高效的去除半导体晶圆上的光刻胶，同时对于基材基本没有攻击如金属铝、铜等，在半导体晶圆清洗等领域具有良好的应用前景。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供