反应系统预清洗方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710046217.6
IPC分类号：B08B7/04;B08B7/00;B08B5/04
申请日期：
2007-09-17
申请人：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	反应系统预清洗方法
申请号	CN200710046217.6	申请日期	2007-09-17
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-03-25	公开/公告号	CN101391258
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B7/04 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B7/00 不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法 B08B7/04 多种操作的结合	IPC分类号	B;0;8;B;7;/;0;4;;;B;0;8;B;7;/;0;0;;;B;0;8;B;5;/;0;4查看分类表>
申请人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	申请人地址	变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司,中芯国际集成电路制造（北京）有限公司	当前权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司,中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
发明人	朴松源;何有丰;白杰;唐兆云
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	逯长明

摘要

一种反应系统预清洗方法，包括：确定以第一温度和第二温度为边界值的降温区间，所述第一温度高于第二温度；执行预处理操作，以使所述反应系统内的温度为第一温度；执行由所述第一温度至所述第二温度的降温操作；在降温过程中，开始执行抽真空操作；在降温至所述第二温度后，执行抽气及升温操作，以使所述反应系统内的温度至少为反应温度。既能减少预清洗时间以提高生产效率，又能增强微粒去除效果。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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