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匀胶装置和取向膜涂覆装置

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201320718037.9
IPC分类号：G02F1/1337;B05C11/10
申请日期：
2013-11-14
申请人：
合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司

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著录项信息

专利名称	匀胶装置和取向膜涂覆装置
申请号	CN201320718037.9	申请日期	2013-11-14
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1337 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1337 液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;7;;;B;0;5;C;1;1;/;1;0查看分类表>
申请人	合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	安徽省合肥市铜陵北路2177号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
发明人	王平;占飞;金相旭;左长云;聂慧
代理机构	北京天昊联合知识产权代理有限公司	代理人	彭瑞欣;陈源

摘要

本实用新型公开了匀胶装置和取向膜涂覆装置，该匀胶装置包括：匀胶辊、与所述匀胶辊的旋转轴平行的刮刀、固定所述刮刀的固定支架和照射所述匀胶辊的表面的光源，所述光源固定于所述固定支架上。本申请中光源用于照射匀胶辊的表面，以便于人眼对匀胶辊表面的取向膜基层进行观察，同时，人眼可根据观察结果判断刮刀的磨损程度，以便及时更换刮刀，从而可有效避免异常的取向膜基层形成。

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