自行清洁离子注入系统腔体的装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN03238562.5
IPC分类号：--
申请日期：
2003-03-20
申请人：
统宝光电股份有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	自行清洁离子注入系统腔体的装置
申请号	CN03238562.5	申请日期	2003-03-20
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	统宝光电股份有限公司	申请人地址	台湾省新竹科学工业区苗栗县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	统宝光电股份有限公司	当前权利人	统宝光电股份有限公司
发明人	林辉巨
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	李宗明;李贵亮

摘要

一种自行清洁离子注入系统腔体的装置，该装置至少是由离子注入腔体、远端高密度等离子体产生器与气体供应装置所构成。远端高密度等离子体产生器连接至离子注入腔体，且气体供应装置连接远端高密度等离子体产生器。其中气体供应装置供应一气体至远端高密度等离子体产生器中，并利用远端高密度等离子体产生器使气体电离生成高密度等离子体后，导入离子注入腔体以去除离子注入腔体内的沉积物。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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