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用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410172815.8
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2014-04-25
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置
申请号CN201410172815.8申请日期2014-04-25
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2014-08-06公开/公告号CN103969964A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市临安区青山湖街道励新路99号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江启尔机电技术有限公司当前权利人浙江启尔机电技术有限公司
发明人傅新;徐宁;陈文昱
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人林怀禹
摘要
本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置。在浸没式光刻机中的投影透镜组和硅片之间设置有气密封和微孔密封装置;气密封和微孔密封装置包括浸没单元基体、浸没单元上端盖、浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖;浸没单元基体上面与浸没单元上端盖接触,浸没单元基体下面依次与浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖接触紧固连接。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能,采用气密封结构和微孔结构防止液体泄漏,在微孔上加上负压对液体进行回收并约束缝隙流场,通过气密封结构实现缝隙流场的密封,同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性。通过大流量注液和回收实现缝隙流场内浸没液体的稳定更新。

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