场造型工艺及设备

发明专利无效专利

申请号：
CN97106524.1
IPC分类号：--
申请日期：
1997-07-17
申请人：
高波

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	场造型工艺及设备
申请号	CN97106524.1	申请日期	1997-07-17
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	1998-02-25	公开/公告号	CN1174112
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	高波	申请人地址	上海市天钥桥路125弄34号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	高波	当前权利人	高波
发明人	高波
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本申请案属于形体组合造型工艺。本申请人的中国专利88105593.X中提出了一种用形体材料微元体组合成型体的方法。由于该需要用机械方式制备巨量的微元体,机构较为复杂,精度较低。本工艺及设备改为利用场对薄层的场力(f或Φ),切割图形状的薄层,再将薄层组合成型体的方法。场力可高精度地快速切割图形薄层,使本工艺的适用性高,设备简单。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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