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用于ARC镀膜生产线的基片架

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201911106235.8
  • IPC分类号:C23C14/50;C23C16/458
  • 申请日期:
    2019-11-13
  • 申请人:
    湘潭宏大真空技术股份有限公司
著录项信息
专利名称用于ARC镀膜生产线的基片架
申请号CN201911106235.8申请日期2019-11-13
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-05-14公开/公告号CN112795888A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/50IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;5;0;;;C;2;3;C;1;6;/;4;5;8查看分类表>
申请人湘潭宏大真空技术股份有限公司申请人地址
湖南省湘潭市九华经济区盛世路8号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人湘潭宏大真空技术股份有限公司当前权利人湘潭宏大真空技术股份有限公司
发明人祝海生;陈立;薛闯;凌云;孙桂红;梁红;黄国兴;黄乐
代理机构湖南乔熹知识产权代理事务所(普通合伙)代理人安曼
摘要
本发明提供了用于ARC镀膜生产线的基片架,用于装载待镀膜的基片,所述基片架在镀膜生产线上运行,包括基片架本体、框架组件和盖板组件,框架组件连接基片架本体的各侧边,基片架本体上设有基片区,基片区包括彼此独立的第一基片区、第二基片区和第三基片区,盖板组件包括第一盖板、第二盖板和第三盖板,第一盖板、第二盖板和第三盖板分别可拆卸的盖合在第一基片区、第二基片区和第三基片区上。本发明所述基片架可装载多种和多个基片,基片架分为多个基片区域,每个基片区域对应配有相应盖板,所述盖板可拆卸的覆盖在对应的基片区域,以分区利用各个基片区域,且防止各基片区域受到污染,框架组件保护基片架本体且稳定承重。

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