过滤和光学表征微粒的过滤基板、制造过滤基板的方法及过滤基板的用途

发明专利有效专利

申请号：
CN201980025363.1
IPC分类号：G01N1/34;G01N21/65;G01N15/06;G01N21/35;G01N15/00
申请日期：
2019-04-11
申请人：
弗劳恩霍夫应用研究促进协会;安哈尔特应用技术大学;联邦材料研究与测试研究所（BAM）

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著录项信息

专利名称	过滤和光学表征微粒的过滤基板、制造过滤基板的方法及过滤基板的用途
申请号	CN201980025363.1	申请日期	2019-04-11
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-12-04	公开/公告号	CN112041656A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N1/34 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N1/00 取样；制备测试用的样品（用于自动分析的材料处理入G01N 35/00） G01N1/28 测试用样品的制备（将样品安装在显微镜载片上入G02B 21/34；电子显微镜中支承被分析的物品或材料的装置入H01J 37/20） G01N1/34 纯化；清洗	IPC分类号	G;0;1;N;1;/;3;4;;;G;0;1;N;2;1;/;6;5;;;G;0;1;N;1;5;/;0;6;;;G;0;1;N;2;1;/;3;5;;;G;0;1;N;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人	弗劳恩霍夫应用研究促进协会;安哈尔特应用技术大学;联邦材料研究与测试研究所（BAM）	申请人地址	德国慕尼黑变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	弗劳恩霍夫应用研究促进协会,安哈尔特应用技术大学,联邦材料研究与测试研究所（BAM）	当前权利人	弗劳恩霍夫应用研究促进协会,安哈尔特应用技术大学,联邦材料研究与测试研究所（BAM）
发明人	克里斯蒂安·哈根多尔夫;卡伊·考夫曼;乌尔丽克·布劳恩
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	暂无

摘要

本发明涉及用于过滤和光学表征微粒的过滤基板。该基板包括厚度为至少100pm且对于波长范围为2500nm至15000nm的辐射的透射度为至少10％的晶片。另外，所述晶片的正面的表面和/或所述晶片的背面的表面全部地或局部地设有防反射层，所述防反射层防止波长范围为200nm至10000nm的辐射的光学反射。此外，所述晶片至少局部地具有直径为1pm至5mm的过滤孔。利用根据本发明的过滤基板，可以以非常高的测量质量对微粒进行过滤以及随后在过滤基板上对微粒进行光学表征。本发明还涉及一种用于制造根据本发明的过滤基板的方法，并且还涉及根据本发明的过滤基板的用途。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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