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近红外双波段等离子体Ge基光电探测器及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110240656.0
  • IPC分类号:H01L31/101;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/028;H01L31/0352;H01L31/0392;H01L31/18
  • 申请日期:
    2021-03-04
  • 申请人:
    西安电子科技大学
著录项信息
专利名称近红外双波段等离子体Ge基光电探测器及其制备方法
申请号CN202110240656.0申请日期2021-03-04
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-09公开/公告号CN113097333A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/101IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;0;1;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;1;6;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;2;4;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;8;;;H;0;1;L;3;1;/;0;3;5;2;;;H;0;1;L;3;1;/;0;3;9;2;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人西安电子科技大学申请人地址
陕西省西安市雁塔区太白南路2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安电子科技大学当前权利人西安电子科技大学
发明人王利明;魏颖;孙浩;胡辉勇;张一驰;王博;张蓓;邵际芳;苑西西;王斌;舒斌
代理机构西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘长春
摘要
本发明公开了一种近红外双波段等离子体Ge基光电探测器及其制备方法,该光电探测器包括本征Si衬底层,位于本征Si衬底层上方的绝缘反射层,位于绝缘反射层上方的本征Ge衬底层,位于本征Ge衬底层表面两侧的金属电极,以及位于金属电极之间的复合纳米结构阵列,其中,每个复合纳米结构阵列单元包括Ge纳米结构和位于Ge纳米结构上方的金属纳米结构。本发明通过在本征Ge衬底层上形成包括Ge纳米结构和金属纳米结构复合纳米结构阵列,实现了Ge材料的本征吸收以及Ge上金属内部电子热吸收的双吸收机制,扩大了吸收范围,提高了探测效率;同时可通过调整结构参数实现红外通信波段的不同双波段响应。

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