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一种硅基PiN紫外光电二极管及其制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201810023857.3
  • IPC分类号:H01L31/0352;H01L31/105;H01L31/18
  • 申请日期:
    2018-01-10
  • 申请人:
    西安理工大学
著录项信息
专利名称一种硅基PiN紫外光电二极管及其制备方法
申请号CN201810023857.3申请日期2018-01-10
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2018-07-13公开/公告号CN108281496A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0352IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;3;5;2;;;H;0;1;L;3;1;/;1;0;5;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人西安理工大学申请人地址
陕西省西安市金花南路5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安理工大学当前权利人西安理工大学
发明人蒲红斌;胡丹丹;王曦;石万
代理机构西安弘理专利事务所代理人蒋姝泓
摘要
本发明公开了一种硅基PiN紫外光电二极管,包括铝电极和镍电极,两电极之间依次附有N型硅衬底、i层氧化镍薄膜和P型氧化镍薄膜。其制备方法是采用磁控溅射设备,利用氧化镍在硅上沉积成膜,形成PiN异质结结构,氧化镍薄膜可作为紫外光吸收层,解决了硅器件的紫外响应问题,制备过程简单易行。

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