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沉积装置及沉积方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201710116613.5
IPC分类号：C23C14/56;C23C14/24;C23C14/12
申请日期：
2017-02-28
申请人：
三星显示有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	沉积装置及沉积方法
申请号	CN201710116613.5	申请日期	2017-02-28
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2017-10-24	公开/公告号	CN107287576A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/56 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/56 连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;1;2查看分类表>
申请人	三星显示有限公司	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三星显示有限公司	当前权利人	三星显示有限公司
发明人	林钟熙;金圭范;金兑龙;朴宰奭;朴镇翰
代理机构	北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司	代理人	王达佐;刘铮

摘要

本发明涉及沉积装置和沉积方法。根据本发明一实施方式的沉积装置包括对衬底执行沉积工艺的沉积单元、包括固定所述衬底的载体以及传送所述载体的传送部件的传送单元、以及布置成与所述沉积单元相邻并且对所述载体执行维修的维护单元，并且所述传送部件包括维护传送部件，该维护传送部件布置于所述沉积单元与所述维护单元之间以将所述载体从所述沉积单元传送至所述维护单元。

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