抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法、高分子化合物及共聚物

发明专利有效专利

申请号：
CN201780061520.5
IPC分类号：G03F7/038;C08F20/26;G03F7/039;G03F7/20
申请日期：
2017-10-04
申请人：
东京应化工业株式会社

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著录项信息

专利名称	抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法、高分子化合物及共聚物
申请号	CN201780061520.5	申请日期	2017-10-04
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2019-05-21	公开/公告号	CN109791359A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/038 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/038 高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的（G03F 7/075优先；高分子叠氮化合物入G03F 7/012；高分子重氮化合物入G03F 7/021）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;3;8;;;C;0;8;F;2;0;/;2;6;;;G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	东京应化工业株式会社	申请人地址	日本国神奈川县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京应化工业株式会社	当前权利人	东京应化工业株式会社
发明人	长峰高志;仁藤豪人;藤崎真史;藤井达也;福村友贵;小岛孝裕;铃木一生;池田卓也;阮庆信
代理机构	上海立群专利代理事务所（普通合伙）	代理人	毛立群

摘要

通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，包含具有以通式(a0－1)表示的结构单元的高分子化合物。式(a0－1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基。Va0为2价烃基。na0为0～2。Ra00为以通式(a0－r1－1)表示的酸解离性基团。Ra01和Ra02为烃基。Ra01与Ra02可以相互键合而形成环结构。Ya0为季碳原子。Ra031、Ra032和Ra033为烃基，这些之中的1个以上为至少具有极性基团的烃基。[化1]

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