放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201010614014.4
IPC分类号：G03F7/075;G03F7/00
申请日期：
2010-12-17
申请人：
JSR株式会社

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著录项信息

专利名称	放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法
申请号	CN201010614014.4	申请日期	2010-12-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-08-10	公开/公告号	CN102147570A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/075 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/075 含硅的化合物〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;7;5;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	JSR株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	JSR株式会社	当前权利人	JSR株式会社
发明人	铃木康伸;上田二朗
代理机构	北京三幸商标专利事务所（普通合伙）	代理人	刘激扬

摘要

本发明涉及一种放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法。本发明的目的是提供一种具有高的涂布性和图案形成性，所得固化物除了高的透明性和粘附性以外，还具有高的折射率，且具有正型的放射线敏感特性的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，由该组合物形成的图案化的固化膜及其形成方法。本发明为一种放射线敏感性组合物，其含有[A]硅氧烷聚合物、[B]金属氧化物颗粒、和[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂，上述[B]金属氧化物颗粒为选自铝、锆、钛、锌、铟、锡、锑和铈构成的群组中的至少一种金属的氧化物颗粒。该放射线敏感性组合物优选还含有分散剂。

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