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一种薄膜晶体管液晶显示器像素结构的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710120169.0
  • IPC分类号:G02F1/1362;G03F7/00;H01L27/12;H01L23/522;H01L21/84;H01L21/768
  • 申请日期:
    2007-08-10
  • 申请人:
    北京京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称一种薄膜晶体管液晶显示器像素结构的制造方法
申请号CN200710120169.0申请日期2007-08-10
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-02-11公开/公告号CN101364016
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/1362IPC分类号G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;G;0;3;F;7;/;0;0;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;2;;;H;0;1;L;2;1;/;8;4;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人北京京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
发明人邱海军;王章涛;闵泰烨
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司代理人刘芳
摘要
本发明公开了一种薄膜晶体管液晶显示器像素结构,包括:玻璃基板、栅线、栅电极、第一栅绝缘层、有源层、掺杂层、第二绝缘层、数据线、源电极、漏电极、像素电极及钝化层,其中栅电极和栅线上依次为第一栅绝缘层、有源层和掺杂层;栅线上有一截断槽,其截断栅线上的掺杂层和有源层;第二绝缘层覆盖在截断槽及栅线和栅电极外的玻璃基板上;像素电极与漏电极呈一体结构,像素电极形成于第二绝缘层上方,漏电极形成于掺杂层上方;源电极和数据线呈一体结构,形成于掺杂层和第二绝缘层上方;钝化层覆盖在像素电极及漏电极之外的部分。本发明同时公开该像素结构的制造方法。本发明通过该结构和制造方法,能增大工艺容差,避免接触电阻的问题。

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