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一种基于石墨烯多孔膜的离子浓差极化芯片及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710171940.0
  • IPC分类号:G01N30/96;C02F1/44;B01D63/00;B01D69/12;B01D67/00;C02F103/08
  • 申请日期:
    2017-03-22
  • 申请人:
    厦门大学
著录项信息
专利名称一种基于石墨烯多孔膜的离子浓差极化芯片及其制备方法
申请号CN201710171940.0申请日期2017-03-22
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-07-07公开/公告号CN106927541A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N30/96IPC分类号G;0;1;N;3;0;/;9;6;;;C;0;2;F;1;/;4;4;;;B;0;1;D;6;3;/;0;0;;;B;0;1;D;6;9;/;1;2;;;B;0;1;D;6;7;/;0;0;;;C;0;2;F;1;0;3;/;0;8查看分类表>
申请人厦门大学申请人地址
福建省厦门市思明南路422号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人厦门大学当前权利人厦门大学
发明人李鑫;何翔;肖代琴;黄海宁;陈宏
代理机构厦门南强之路专利事务所(普通合伙)代理人马应森
摘要
一种基于石墨烯多孔膜的离子浓差极化芯片及其制备方法,涉及离子浓差极化芯片。芯片包括玻璃底座、PDMS基片、缓冲溶液的进出水口、第1PDMS基片中的石墨烯基多孔膜;第1PDMS基片带有Y形凹槽,第2PDMS基片带有I形凹槽。制备方法:配制石墨烯基前驱体浆料;制作芯片;将石墨烯基前驱体浆料涂抹在Y通道的切口处,固化后即得芯片。价格低,工艺简单,容易制取;石墨烯类材料自身属于弱酸,对器件的危害低;石墨烯类材料电导率调控方便,易于进行表面官能团与电荷调控,可与大量材料进行复合实现复合薄膜与器件的制备。较于Nafion基的芯片,石墨烯基的芯片能形成更稳定、范围更大的耗尽区。

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