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一种刻磨抛光加工锆钻的方法和装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200910046304.0
  • IPC分类号:B24B9/16
  • 申请日期:
    2009-02-18
  • 申请人:
    上海镭立激光科技有限公司
著录项信息
专利名称一种刻磨抛光加工锆钻的方法和装置
申请号CN200910046304.0申请日期2009-02-18
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-08-18公开/公告号CN101804591A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24B9/16IPC分类号B;2;4;B;9;/;1;6查看分类表>
申请人上海镭立激光科技有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区爱迪生路328号101室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海镭立激光科技有限公司当前权利人上海镭立激光科技有限公司
发明人龚辉
代理机构上海世贸专利代理有限责任公司代理人严新德
摘要
一种刻磨抛光加工锆钻的方法,包括利用数控机床和圆型刻磨抛光一体盘对原料锆石进行刻磨和抛光的步骤,圆型刻磨抛光一体盘的外圆部分刻磨,内圆部分抛光。利用计算机根据锆钻尺寸面型计算出需要的刻磨角度和研磨量,然后由数控机床控制原料锆石在360度任意空间按锆钻面型角度变换,并在刻磨抛光一体盘中磨盘部分上刻磨,完成锆钻面型刻磨,同时将刻磨的轨迹转换成数控编码,在抛光步骤中按数控编码还原的轨迹进行角度变换,并在刻磨抛光一体盘的抛光部分上抛光。一种实现上述方法的装置,由机架、圆型刻磨抛光一体盘和夹具构成。本发明在抛光步骤中按数控编码还原的轨迹进行抛光,控制精度高,刻磨抛光质量好,可实现全自动操作。

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