用于熔凝元件的T型氨基官能防粘剂

发明专利有效专利

申请号：
CN200510080931.8
IPC分类号：G03G15/20
申请日期：
2005-06-24
申请人：
施乐公司

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专利名称	用于熔凝元件的T型氨基官能防粘剂
申请号	CN200510080931.8	申请日期	2005-06-24
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2005-12-28	公开/公告号	CN1713090
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03G15/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03G 电记录术；电照相；磁记录（依靠记录载体与传感器之间的相对运动存储信息入G11B；具有写入或读出信息装置的静态存储入G11C；电视信号的记录入H04N 5/76） G03G15/00 应用电荷图形的电记录工艺的设备（G03G 16/00，G03G 17/00优先）〔2，5〕 G03G15/20 定影用的，例如用加热法	IPC分类号	G;0;3;G;1;5;/;2;0查看分类表>
申请人	施乐公司	申请人地址	美国康涅狄格州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	施乐公司	当前权利人	施乐公司
发明人	D·J·格尔瓦西;A·N·克雷马奇约夫;S·卡普兰;S·S·巴德沙;D·B·维尔金斯;G·A·吉布森
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	郭广迅;庞立志

摘要

用于将转印的显影图像熔凝到复印基材上的熔凝元件组件，其中熔凝元件包括基材、聚合物外层和在聚合物外层上的防粘剂材料涂层，该涂层包括具有氨基官能团的T型氨基官能硅氧烷防粘剂材料，而该材料具有下式结构，式中A表示-R4-X，R4表示具有约1-约10个碳原子的烷基，X表示-NH2或-NHR5NH2，R5表示具有约1-约10个碳原子的烷基；R1和R2相同或不同，各选自具有约1-约25个碳原子的烷基，具有约4-约10个碳原子的芳基，和芳基烷基；R3是具有约1-约500个硅氧烷单元的取代二有机基硅氧烷链；b和c是数值，相同或不同，各自满足1≤b≤10和10≤c≤1000的条件，d和d’是数值，相同或不同，是1或2，e和e’是数值，相同或不同，是1或2，并满足d+e＝3和d’+e’＝3的条件。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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