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一种具有P柱区和N柱区阶梯掺杂的SJ-VDMOS器件及制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810165544.1
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L21/336;H01L29/06
  • 申请日期:
    2018-02-28
  • 申请人:
    南京邮电大学
著录项信息
专利名称一种具有P柱区和N柱区阶梯掺杂的SJ-VDMOS器件及制造方法
申请号CN201810165544.1申请日期2018-02-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-09-04公开/公告号CN108493247A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6查看分类表>
申请人南京邮电大学申请人地址
江苏省南京市栖霞区文苑路9号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人南京邮电大学当前权利人南京邮电大学
发明人成建兵;王勃;陈姗姗;吴宇芳
代理机构南京经纬专利商标代理有限公司代理人田凌涛
摘要
本发明涉及一种具有P柱区和N柱区阶梯掺杂的SJ‑VDMOS器件及制造方法,将阶梯掺杂(变掺杂)的思想引入新结构,将漂移区超结中的超结P型柱区(11)进行阶梯掺杂,掺杂浓度由源极到漏极逐渐降低;同时超结N型柱区(12)也进行阶梯掺杂,掺杂浓度由源极到漏极逐渐升高。新型结构阶梯掺杂可以平衡漂移区的电荷,提高器件击穿电压的同时保持了器件好的导通电阻特性。并且新结构可以降低器件内部电荷存储,提高器件开关速度,当器件应用于功率集成电路时,可以有效降低开关损耗。

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