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用于CMP的经正电性聚电解质处理的阴离子性研磨颗粒

发明专利有效专利

申请号：
CN03803719.X
IPC分类号：C09G1/16
申请日期：
2003-02-10
申请人：
卡伯特微电子公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于CMP的经正电性聚电解质处理的阴离子性研磨颗粒
申请号	CN03803719.X	申请日期	2003-02-10
法律状态	暂无	申报国家	暂无
公开/公告日	2005-06-22	公开/公告号	CN1630697
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/16 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/06 其他抛光组合物 C09G1/14 基于非蜡物质的 C09G1/16 基于天然或合成树脂的	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;1;6查看分类表>
申请人	卡伯特微电子公司	申请人地址	美国伊利诺伊州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	CMC材料股份有限公司	当前权利人	CMC材料股份有限公司
发明人	艾萨克·K·彻里安;菲利普·W·卡特;杰弗里·P·张伯伦;凯文·J·莫根伯格;戴维·W·博尔德里奇
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	宋莉;贾静环

摘要

本发明提供化学机械抛光体系及利用该抛光体系抛光基底的方法，其中该体系包括(a)研磨剂，(b)液体载剂，及(c)分子量为约15,000或更高的正电性聚电解质，其中该研磨剂包括与该正电性聚电解质静电结合的颗粒。

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