清洗方法及装置

发明专利无效专利

申请号：
CN98122796.1
IPC分类号：--
申请日期：
1998-12-09
申请人：
TDK株式会社

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	清洗方法及装置
申请号	CN98122796.1	申请日期	1998-12-09
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	1999-06-16	公开/公告号	CN1219758
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	TDK株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	TDK株式会社	当前权利人	TDK株式会社
发明人	小林宽二;工藤纯;吉原信也;山口正雄
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	杨凯;叶恺东

摘要

本发明能高效率地、且有效地进行刷洗和超声波清洗。在用清洗装置20清洗晶片11时，将清洗液30容纳在清洗槽31内，在将刷子33a、33b打开的状态下，将晶片11插入清洗槽31内，将其保持在摇动·旋转滚子32a～32d上。此后，将刷子33a、33b闭合，用刷子33a、33b夹持晶片11。其次使刷子33a、33b旋转，还用摇动·旋转滚子32a～32d等使晶片11摇动及旋转，再用超声波发生装置36对清洗槽31内的清洗液30附加超声波。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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